[size=13.524px]IEDM 新闻资料包展示了 STMicro 展示其量子点 NIR/SWIR 成像仪论文的一些数字: [size=13.524px]论文 #23.4,“针对近波和短波红外优化的 1.62μm 全局快门量子点图像传感器”,JS Steckel 等人,意法半导体 [size=13.524px]NIR/SWIR 传感器创纪录的量子效率:意法半导体的研究人员将报告一种 1.62μm 像素间距全局快门传感器,用于在光谱的近红外 (NIR) 和短波红外 (SWIR) 区域成像。它展示了创纪录的光学性能:前所未有的>50% 的量子效率和>99.94% 的快门效率。这一突破是通过使用新型胶体 PbS 量子点薄膜技术实现的,并且这些设备是在 300 毫米制造工具集上制造的。
- 上图是鉴定晶片,显示 (a) 基本量子膜 (QF) 测试结构;(b) 像素矩阵测试芯片;(c) 全图像传感器产品。
- 在中间的一组图像/绘图中,从左到右是集成在 CMOS 读出 IC 顶部的 QF 光电二极管阵列;QF 光电二极管截面;以及设备堆栈的图形描述。
- 底部是使用 940nm NIR QF 传感器(左)和高端智能手机摄像头(右)拍摄的室外图像。NIR 图像在对比度方面显示出显着差异,并且能够清楚地识别隐藏在树叶中的黑色电线与可见图像。
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